ITO sputtering target
Release Date[2013-8-28 17:48:15]    Total access[481]Times

ITO sputtering target

Parameters and note describes: 
1, powder, and target preparation methods: 
  Homogeneous co-precipitation, cold sintering, etc. 
  Powder Purity:  99.99% 
2,target dimensions: 
  4.5mm, 6mm, wheat granular particles (1-3mm) (can be customized on request) 
  Target Color: Black (high density) 
  Target Color: green (low density) 
  Evaporated with the target relative density:  62% 
3, target ratio ratio: In 2 O 3 / SnO 2 95:5 90:10 98:2 (the ratio can be customized on request) 
4, after the technical parameters of film 
   Visible Light Transmittance:  85% 
    Infrared reflectance:  80% 
    UV absorption rate:  85% 
    Attenuation:  85% 
   Film resistors: 1-10x10 -4 立.cm, or a square resistance 10-200立 
5, usually working pressure Pa 
   Is less than 10 -2 Pa 
6, the temperature 
    Now they use a low-temperature film-forming technology, temperature controlled at 150  -300 , temperature and oxygenation depends on the amount of a specific ratio of the source material, and vacuum deposition approach. 



rights reservedBestcho Technology Co.,Ltd
contents of this site is for reference only, the ultimate power of interpretation to the Bestcho Technology Co.,Ltd, all the details of the government and legal documents for final approval